デバイスパラメータ：
名前：光電産業用超純水設備 モデル：JYK-2RO-60型操作圧力：1.6未満（Mpa）
操作圧力：0.3（Mpa） 水抵抗率：18 出水量：カスタマイズ可能
　 外形寸法：1000*3000（cm） 電圧：380（V） 水質：200 出力：5.5（w）
導電率：10 脱塩率：99.7（%） スタンドアロン出力水：カスタマイズ可能(/h)

新興の光電材料の生産、加工、洗浄、LCD液晶ディスプレイ、PDPプラズマディスプレイ、高品質ランプブラウン管、マイクロエレクトロニクス工業、大規模、超大規模集積回路は大量の高純水、超純水で半製品、完成品を洗浄する必要がある。集積回路の集積度が高いほど水質への要求も高くなり、これも超純水処理プロセス及び製品の簡易性、自動化の程度、生産の連続性、持続可能性などはより厳格な要求を提出した。
　　用途：
☆半導体材料、デバイス、プリント基板、集積回路、
☆LCD液晶ディスプレイ、PDPプラズマディスプレイ、
☆高品質ブラウン管、蛍光粉末の生産；
☆半導体材料、結晶材料の生産、加工、洗浄、
☆超純材料と超純化学試薬、超純化学材料、
☆実験室と中試運転室、
☆自動車、家電の表面研磨処理、
☆光電製品、
☆その他のハイテクマイクロ製品、

光電業界の水質基準：
我が社の電子級超純水設備の出水水質は完全に米国ASTM純水に符合する水質基準、我が国電子工業部電子級水質技術基準（18 MΩ.cm、15 MΩ.cm、10 MΩ.cm、2 MΩ.cm、0.5 MΩ.cmの5級基準）、我が国電子工業部高純水水質試行基準、米国半導体工業用純水指標、日本集積回路水質基準、国内外大規模集積回路水質基準。